PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。
基本方法
真空蒸发
磁控溅射
离子镀DLC
（空心阴极离子镀、热阴极离子镀
电弧离子镀、活性反应离子镀
射频离子镀、直流放电离子镀）
工艺流程
镀料的气化
▼
镀料原子、分子或离子的迁移
▼
镀料原子、分子或离子在基体上沉积
特点
有耐磨
耐腐饰
导电、绝缘
光导、压电
磁性、润滑
超导等特性的膜层
优缺点
工艺过程简单
高硬度
低摩擦系数
可镀膜层种类广泛
无污染
耗材少
成膜均匀致密
与基体的结合力强
——
限制在真空环境
膜层种类
单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等)
氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）
碳化物膜（TiC、TiCN)
氧化物膜（如TiO等)
应用领域
航空航天
电子光学、机械
建筑、轻工
冶金、材料等领域
PVD应用案例欣赏
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